Silicon Catalyst Japan、インキュベーション候補として国内3社のスタートアップを公募から選定

〜国内の専門家ネットワークによる育成から、グローバル市場への展開を支援〜

日本で唯一の半導体・ディープテック領域スタートアップのインキュベーションとアクセラレーションを行うSilicon Catalyst Japan（シリコンカタリストジャパン）株式会社    （本社：東京都中央区、代表取締役社長：圓城寺 啓一、以下「SCJ」）は、本日、有望な   スタートアップ企業として、3D Architech合同会社（本社：宮城県仙台市、CEO：成田 海、以下「3Dアーキテック」）、株式会社illuminus（本社：東京都中央区、代表取締役：平野 雅史、以下：「イルミナス」）ならびに株式会社ScentifAI（本社：東京都中央区、代表取締役：黒木 俊一郎、以下：「センティファイ」）をインキュベーション候補として選定しました。

3社は、各分野で高い実績を持つ専門家で構成される当社のインキュベーションチームが 技術的ポテンシャルや事業性を評価し、厳選したものです。SCJでは、日本独自の専門家   ネットワークを通じて国内での育成を先行して行った上で、この領域の先駆者である米国のSilicon Catalyst社（米国・カリフォルニア州）が有する米国のネットワークを活用する ことで、スタートアップのグローバルな市場開拓を支援してまいります。

このたびの選定は、国内では4月に実施したソニーセミコンダクタソリューションズグループからのスピンアウトであるSCALE photonics株式会社（本社：東京都中央区、代表取締役CEO：鎌田 将尚）の支援に次ぐものです。また、このたびの3社の選定に先立ち、SCJは      6月に韓国においてもソウル国立大学System-IC産業振興センター（SIPC）と共同で開催した「Global Strategic Partnership Day」において、有望な韓国のスタートアップ3社をインキュベーション候補として選定しています。

今回選出した企業は、今後、インキュベーションプログラムへの正式採択に向けた評価プロセスの対象となります。SCJは国内での育成を軸としつつ、必要に応じて世界中のアドバイザーやパートナー企業へのアクセスを提供することで、日本・韓国のみならずアジアマーケットにおける革新的なスタートアップの創出を強力に主導してまいります。

今回の公募には約30社の意欲的な企業からご応募をいただき、国内の半導体スタートアップシーンの熱量の高さを実証するものとなりました。選定した3社に続く企業についても順次選考を進めており、準備が整い次第発表いたします。なお、本公募は12月15日まで受け付けており、次回の公募は2027年春頃を予定しております。さらに、SCJでは公募に応募いただいたスタートアップと企業との連携の機会も提供しており、引き続き、革新的な技術を 持つスタートアップの発掘と支援を積極的に続けてまいります。

選定した国内3社の詳細は次頁をご参照ください。

＜選定した国内3社の詳細とグローバル市場へのインパクト＞

• 3D Architech合同会社（3Dアーキテック）

• AIインフラ・ハードウェアの物理的な熱限界を突破する革新的な熱マネジメント

本社：           宮城県仙台市

米国拠点：    マサチューセッツ州ケンブリッジ（ボストン）

代表：  成田 海

設立：  2022年

提供価値・技術詳細：


カリフォルニア工科大学（Caltech）での研究成果を起源とする、独自の金属微細造形技術「GMM法（Gel-to-Metal Manufacturing）」を保有。基盤技術は、Nature誌の「2024年注目の7技術」にも選ばれています。    従来の切削加工や金属3Dプリンティングでは困難な10ミクロン級の純銅マイクロ構造を、専用金型を用いずに量産できます。この製造技術と独自の熱流体設計技術を組み合わせ、AIチップの発熱分布に最適化した高性能液冷用コールドプレートを設計・製造しています。

技術的強みとグローバル市場における用途・優位性：

生成AIの普及により、AIチップの発熱量は2027年以降、1パッケージあたり4kW級に達する見込みです。一方、現在主流のスカイブ加工によるコールドプレートは、フィンの薄さ（約100ミクロン）と流路設計の自由度の   点で限界に近づいています。当社のコールドプレートは、発熱が集中する箇所へ冷却液と伝熱面を重点的に配分する三次元構造により、従来品と比較して優れた熱抵抗・圧力損失性能を実現します。世界のAIサーバーと冷却部品の生産が集中する台湾のサプライチェーンでの採用を目指し、量産化を進めています。

WEBサイト： https://3d-architech.com

• 株式会社illuminus（イルミナス）

• 次世代のエネルギー・パワー半導体の根幹を塗り替える新素材・合金フラットフォームの創出・提供

本社： 東京都中央区

代表： 平野 雅史

設立： 2023年5月

技術・提供価値：

独自のレーザーによるナノ粒子合成技術を活用し、従来の製法では作製が困難であった「多元完全固溶合金ナノ粒子」をはじめとする多様な無機ナノ粒子の共同開発・製造、ならびに導入容易なプロセス装置の開発・  提供を通じ、新材料合成プラットフォームを提供します。さらに、コア  技術「レーザー誘起還元法」は、還元剤フリーの常温・常圧の工程で微細なナノ粒子を合成。熱平衝では混ざらない2〜20元系合金など、1〜10桁ナノ粒径での自在性高い組成選択・構造制御、表面修飾・分散溶媒・担体の選択も可能にしています。既存材料では実現困難な特性要求に対し、 最適化した新規ナノ材料を提供します。

技術的強みとグローバル市場における用途・優位性：

「AI時代のエネルギー、熱、資源問題解決に貢献するマテリアル・ノード企業」として、パワー半導体・3D積層実装に適した低温接合・高耐熱を 両立する接合材料、電子部品のプロセスコスト低減と性能向上を両立  する新組成材料、地政学リスクをはらむイリジウム他プラチナ族等貴金属レスの脱炭素・新エネルギー（CO2直接回収、水素・燃料電池等）触媒材料、PVの銀使用量の削減等を通じて、従来の材料の常識を覆す飛躍的な「性能/コスト比」を実現するゲームチェンジャーです。

WEBサイト： www.illuminus.co.jp

• 株式会社ScentifAI（センティファイ）※旧：Aroma Bit

・フィジカルAIやロボティクスに「化学的知覚」を統合する、デジタル嗅覚基盤を構築

本社：  東京都中央区

代表：  黒木 俊一郎

設立： 2025年9月

提供価値・技術詳細：


人間の複雑な「嗅覚（Olfaction）」をデジタルデータ化する、世界最小   クラスの超小型・高精度な「CMOS半導体型ニオイイメージングセンサー（AIS）」および「デジタル嗅覚AI（ScentifAI®）」統合プラットフォームを開発。人間が言語化しにくい微量な匂いや複合的な香りや化学環境情報をカメラの画像データのように高解像度の2次元/多次元パターンへと即座に可視化・数値化します

技術的強みとグローバル市場における用途・優位性：


鼻の受容体に相当するニオイ受容体膜材料技術力と標準的な半導体CMOSプロセスを採用したセンサー基盤技術の組み合わせよりする、従来のニオイセンサーにはない圧倒的な超小型化・高精度化・低コスト量産を達成。食品・飲料のサプライチェーン管理から医療・ヘルスケア、さらには急速に拡大する「フィジカルAI（Physical AI）」やロボティクス領域において、機械に「嗅覚（化学的知覚）」を授ける世界唯一無二の入力      デバイス基盤として北米・グローバル市場での展開を加速しています。

WEBサイト： https://scentif.ai/

（ご参考）＜選定した韓国3社の企業の概要＞

• Xenoscube

技術概要：「直感的AI（Intuitive AI）」の実現に向け、独自のXPU（eXtreme Processing Unit）によりメモリのボトルネックを解消するAIインフラを構築

• ITDA Semicoonductor

技術概要：熟練エンジニアのノウハウをAIエージェント化し、複雑なSoCシステム設計をGUIベースで自動化するプラットフォーム「SOC Canvas」を提供

・    VitakIC

技術概要：デジタルヘルスケア向けの超低消費電力・高精度な生体信号処理半導体。オンセンサーAIを融合した連続血糖測定（CGM）等のソリューションを展開

＜Silicon Catalyst Japan株式会社について＞ URL：https://sicatalyst.jp/

SCJは、日本唯一の半導体・ディープテック特化型アクセラレーターです。日本はもとより、世界中の専門家ネットワークを通じて、革新的な半導体技術のインキュベーション、投資から市場開拓までを一気通貫で支援しています。